セレクティブスパッタリング装置 ESC-333L

超高真空対応のスパッタ装置です。複数のターゲットをスライドさせ、自由にターゲットの材料を選択してスパッタ成膜できます。

ALD装置 EALD-4

原子層堆積法により、１原子層レベルで膜厚を制御し、均一で高品質且つ段差被膜性の高い薄膜を形成することが可能です。 1.トップフロー方式を採用し、より均一な製膜が行えます。 2.独立した配管とMFCでチャンバーへ接続するこ […]

イオンコーター IB-2/IB-3

この装置はTEM/SEMの試料作製用装置として、手軽に簡単に操作することができます。 1.33Pa程度の低真空でグローチャージを起こさせて残留ガスをイオン化し、このガスイオンのエネルギーを利用して金属をスパッタさせたり、 […]