製品案内
Product informationスパッタリング装置 IB-7
概要
本装置は貴金属よりもスパッタ率の小さなターゲット（鉄、ニッケル、クロム、ジルコニウム等）が使用できます。
製品仕様
１. 真空チャンバー φ150×H140㎜のパイレックスガラス製
２. 到達圧力 10⁻³Pa台
３. 試料台寸法 φ50㎜
４. ターゲット寸法 φ50mm
５. 排気系 TMP、RP
６. 所要電源 AC100V
７. ターゲット材質 Au、Pt、Pt-Pd、Fe、Ni、Cr、ZnAl
