製品案内

本ＭＢＥは液体窒素を使用しない、全く新しいコンセプトのもとに開発した装置です。

自動ベーキング機構と自動成膜ソフトにも対応可能です。　

最大の特徴として、セル用ソースフランジに蒸発源ポートが１６元装備されています。

様々な蒸着源を用いることができるため、応用範囲は格段と広がります。　　　　

＜成長チャンバー＞
到達圧力･････････10⁻⁸Pa以下
チャンバー寸法･･･φ512×600mm（下フランジφ610）
　基板ホルダー･････最大φ4インチ
　基板加熱温度･････1000℃（Ｔａヒーター）
　蒸発源ポート数･･･φ114ICF×16（他対応可）
　蒸発源･･･････････Ｋセル、デュアルヒートセル
　　　　　　　　　 バルブドクラッキングセル
　　　　　　　　　 ＥＢガン、ラジカル源
＜ロードロックチャンバー＞
　到達圧力･････････10⁻⁵Pa以下
　基板装着枚数･････4枚
　予備加熱機構･････300℃（ランプヒーター）