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ECN-500

製品種別:特注装置  製品種別詳細:カーボンナノチューブ合成装置

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概要 触媒金属の堆積から、カーボンナノチューブ(CNT)の合成まで真空中で連続して行えるように、マルチスパッタリング装置とプラズマ化学気相堆積装置(PECVD)を一体化させました。
また、カーボンナノチューブをシリコンなどの様々な基板上に600℃以下で合成することができます。
仕様 ■ チャンバー
1.到達圧力 1.5×10-5Pa以下
2.基板寸法 2インチ
3.基板加熱温度 600℃
4.ヒーター材質 ランプヒーター
5.面内回転 5,10,15RPMの3段階切り替え
6.排気系 TMP210L/sec  R.P162L/min
7.ターゲット数 5基(1基はCVD用)
8.ターゲット寸法φ3インチ
9.ガス導入 マスフローコントローラ×3台
■ オプション
10.ロードロックチャンバー / マスク交換機構 / エミッタ評価機構 / ラジカル源 / 膜厚計

詳細な情報についてはこちらよりご相談ください。

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