ES-350SU
| 製品種別：スパッタリング装置 製品種別詳細：超高真空マルチターゲットスパッタリング |
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| 概要 | 幅広くさまざまな機能を備えた上で、構造設計上随所に工夫を凝らしてありますので、非常に使い易い装置です。 電子デバイスの薄膜形成・GMR等の研究用・高温超伝導体等の新しい材料の創製技術用としてご利用頂けます。 ターゲットポジショニング回転機構の開発により、１つの電極を用いて５つのターゲットのDC・RF両方式のマグネトロンスパッタが可能です。 又、基板ホルダーは回転し、速度も選択できます。 |
| 仕様 | ■ 成膜室 １．到達圧力 1.5×10-6Pa ２．基板寸法 2インチ ３．基板加熱温度 600℃ ４．ヒーター材質 ランプヒーター ５．ターゲット 3インチ×5基（モーター駆動） ６．排気系 TMP500L/sec R.P250L/min ■ ロードロック室 ７．到達圧力 6.6×10-5Pa ８．排気系 TMP60L/sec R.P90L/min ■ オプション ９．冷却機構付基板ホルダー / 加熱冷却機構付基板ホルダー / 機構 / UHV対応型 / ラジカル源 / 防着板 |
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