製品案内

ES-230

製品種別:CVD装置  製品種別詳細:CVD+マルチターゲットスパッタ複合装置

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概要 新素材創出の為の諸実験に御利用頂けます。
3元のスパッタリングが可能です。 ターゲットポジショニング回転機構により、一つの基板に対して3つのターゲットのDC/RF(オプション)両方式のマグネトロンスパッタリングのセッティングが可能です。
基板ホルダーは加熱機構付です。 基板は最高600℃まで加熱できます。
マスクを使用することにより、基板上の任意の場所にカーボンナノチューブを合成させることができます。
仕様 1.スパッタ室 到達圧力 : 10-5Pa台ターゲット数 : 3基(手動にて選択)
2.スパッタガン 寸法 : φ2"
3.マニピュレータ 基板寸法 : φ1"対応 最高加熱温度 : 600℃(ランプ加熱)
4.マスフローコントローラ ガス種 : Ar、その他

詳細な情報についてはこちらよりご相談ください。

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