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EPC-100

製品種別:真空蒸着装置  製品種別詳細:高品質PXP成膜装置(パラキシリレンポリマー)

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概要 CVD法による高品質ポリパラキシレン薄膜の成膜装置です。
電子デバイス内の各種絶縁部材(ゲート絶縁層等)や封止に最適。
仕様 ■ 到達圧力 10-5Pa台
■ チャンバー寸法φ253×350mm程度
■ 高分子蒸着源 石英管ø50×1000mm程度
■ 気化炉 気化 〜180℃
■ 分解炉 熱分解650〜750℃
■ チラーユニット 温度設定範囲‐20℃〜30℃
■ コールドトラップ 4インチ

詳細な情報についてはこちらよりご相談ください。

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