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*新製品*プラズマALD装置 EALD-P-4

製品種別:CVD装置  製品種別詳細:CVD

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概要 本装置は成膜モードがプラズマALDとサーマルALDのふたつの機能を備えたALD装置です。
TMPとドライポンプの排気系を使用して高品質な段差被膜性の高い原子層堆積が可能。
オプションでALD膜厚センサーが設置できます。
また装置全体をグローブボックスに収納しておりクリーンな環境下での実験を可能にしました。
仕様 1.到達圧力 1.5×10-6Pa(ベーキング後)
2.標準4ライン(容量50t)装備 2ライン増設可能
3.基板サイズ 最大4インチφ(特注で8インチφまで製作可能)
4.ALD成膜ソフト バルブ開閉、サイクル数設定等
5.排気系 TMP、ドライポンプ(1000l/m)
6.除害装置 排ガス中の反応生成物を除去
7.プラズマ電極 誘導型
8.膜厚分布保証 ±2%以内(300nm製膜時)
9.ガス供給系 O2、N2(オプションH2)

詳細な情報についてはこちらよりご相談ください。

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