*新製品*窒化ガリウム製膜装置 ＥＷ-500ＧＮ
| 製品種別：真空蒸着装置 製品種別詳細：真空蒸着装置 |
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| 概要 | 本装置は窒化ガリウム（GaN）成膜を目的とした超高真空成膜装置です。 特徴としてはGaをはじめ最大8基の蒸発源（セル）を装備でき、窒化源はラジカルビーム源（ラジカル効率を高めるイオントラッパー機構付き）を採用しております。 チャンバーの冷却には水冷ジャケット(オプションで液体窒素シュラウド選択可能）です。 |
| 仕様 | ・到達圧力：ロードロックチャンバー・・・・・・５×１０-5Pa ：成膜室・・・・・・・・・・・・・・・・・・７×１０-8Pa ・基板寸法：φ1インチ〜φ3インチ対応・基板加熱温度：max1000℃ ・蒸発源：最大Kセル8基装備可能・窒化源：ラジカルビーム源（RF電源、N2ガス供給ライン付属） ・測定機器：分子線束モニター、真空計 ・付属品：ベーキングシステム、冷却水供給システム ・成膜ソフト：オプション |
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