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*新製品*窒化ガリウム製膜装置 EW-500GN

製品種別:真空蒸着装置  製品種別詳細:真空蒸着装置

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概要 本装置は窒化ガリウム(GaN)成膜を目的とした超高真空成膜装置です。
特徴としてはGaをはじめ最大8基の蒸発源(セル)を装備でき、窒化源はラジカルビーム源(ラジカル効率を高めるイオントラッパー機構付き)を採用しております。
チャンバーの冷却には水冷ジャケット(オプションで液体窒素シュラウド選択可能)です。
仕様 ・到達圧力:ロードロックチャンバー・・・・・・5×10-5Pa
:成膜室・・・・・・・・・・・・・・・・・・7×10-8Pa
・基板寸法:φ1インチ〜φ3インチ対応・基板加熱温度:max1000℃
・蒸発源:最大Kセル8基装備可能・窒化源:ラジカルビーム源(RF電源、N2ガス供給ライン付属)
・測定機器:分子線束モニター、真空計
・付属品:ベーキングシステム、冷却水供給システム
・成膜ソフト:オプション

詳細な情報についてはこちらよりご相談ください。

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